「各位董事，要是EUVLLc聯盟在未來二年從理論上證明研製EUV刻機的技可行，將這個寶貴的機會和重任給GcA，公司不可能放棄，但投資巨大，半導產業陷衰退又不可避免，避免兩線作戰，造資金捉襟見肘，我們只能將重心放在EUV刻機的研製上。我建議艾德里安先生和湯普森院長出面找SVG商談，聯合開發157nm激。」

孫健估計，EUVLLc聯盟在明年底前就能證明製造EUV刻機在理論上的可行，但EUV刻機量產最起碼還需要10年，如今也不能告訴大家，到時由bSEc免費提供193nm浸沒式刻機專利技給GcA。

bSEc是在GcA擁有的第一代193nmArF準分子激專利技基礎上研發功193nm浸沒式刻機技，核心還是GcA擁有技專利的193nm準分子激，GcA研製的第二代、第三代193nm準分子激也授權bSEc技；雖然浸沒式刻技屬於bSEc重新開發的公司發明專利，但按照當初簽訂的專利技授權轉讓合同，要免費授權給GcA使用，就像GcA去年研發功的第三代磁懸浮式雙工作枱系統，專利還是屬於bSEc，授權GcA免費使用。

1.5um-800nm製程工藝的刻機配套6英寸晶圓，500nm-180nm製程工藝刻機配套8英寸晶圓，90nm以下的都配套12英寸晶圓，相配套的磁懸浮工作枱系統分別稱為第一代、第二代、第三代，一代中還有子代，核心技還是bSEc擁有公司發明專利的第一代。

GcA研發功第二代、第三代磁懸浮式雙工作枱系統通過夏季常院士領導的刻機自化研究所改進后，青出於藍而勝於藍，返還GcA使用，授權其他刻機公司升級。

bSEc刻機自化研究所將來研製為12英寸晶圓、65nm製程工藝浸沒式刻機配套的磁懸浮式雙工作枱系統將稱為第四代，10nm稱為第五代、7nm稱為第六代……bSEc擁有的磁懸浮式雙工作枱系統的公司發明專利不會失效。

兩家公司雖然都是孫健控，手背手心都是，但嚴格按照兩國法律辦事，不會留下被人攻擊的把柄。

以GcA如今的江湖地位、財力和技實力，願意同SVG聯合開發157nm激，對雙方都有利，如何說服papken同意就不是孫健關心的事了。

「好的，董事長！」

「好的，董事長！」

孫董事長同意兩條走路，艾德里安和湯普森放心了，他倆有信心說服papken。

其他董事也出笑容。

孫健也沒辦法說服公司高層放棄研究157nm激，只能折中。

1999年財報顯示，SVG的銷售收只有2.7億元，不到GcA的5%，157nm激技路線在前世已被證明沒有遠大前途，孫健不能明說，也說不清楚，正好借這次董事會的機會否決了GcA高層打算投資10億元收購SVG的意向。

前世，為了能進EUVLLc聯盟，給國政府一份投名狀，ASmL花費16億元收購了市值10億元的SVG，拿到了157nm激需要配置的反折鏡頭技，由於已經研發功193nm浸沒式刻機技，刻效果超過Nikon的157nm刻機技，SVG的157nm激技被束之高閣。

前世，Nikon費盡心機，在ASmL研究功193nm浸沒式刻機二年後，也研製功157nm激，攻克了193nm波長的世界級難題，研製功65nm製程工藝刻機，但刻效果不如65nm製程工藝的ASmL浸沒式刻機好，Intel、臺積電和三星等三家全球最重要的刻機客戶不買賬，Nikon不得不另起爐灶，重新開始研發浸沒式刻機，Nikon技實力雄厚，竟然也研製功，但一去一回，耽誤了三、四年的時間，高端刻機市場被ASmL佔據了，隨著EUV刻機面世，超高端刻機市場也被ASmL壟斷，日本舉國之力也沒有研製功EUV刻機，Nikon喪失了同ASmL競爭的資格，在中端刻機市場混日子。

刻機產業和晶圓製造產業都屬於勞集型和資金集型產業，優勝劣汰，前世全球只剩下3、4家！

bSEc將來能否研製功EUV刻機不是孫健心的事，儘力就夠了！

累死了，痛苦會留給家人！

重生者也不想當什麼英雄!

ASmL是否投巨資收購SVG？得到其157nm激需要配置的反折鏡頭技，早日開發功157nm激，tIc作為戰略投資者，不干涉ASmL的日常經營活。

全球數碼相機霸主canon看不上一年全球只有500臺左右刻機的生意，沒有全心研發刻機，但今年3月也研製功180nm製程工藝的刻機，如今正在研製90nm製程工藝的刻機，技水平排在全球第4位，在全球中低端刻機市場佔據5的市場份額。

SVG在今年5月也研發功180nm製程工藝的刻機。技水平在全球排第五位，在全球中低端刻機市場佔據2。

bSEc還在研發180nm製程工藝的刻機，藉助於蓬發展的國市場，佔據全球中低端刻機市場的3，還擁有全球排名第一的磁懸浮式雙工作枱系統技，綜合實力同SVG並列第五。

研製12英寸晶圓、90nm製程工藝的刻機比研發原子彈和衛星複雜的多，刻機產業除了耗資巨大外，還需要技積累和人才積累，這個時代的國半導產業鏈同國和日本相比不是一個層次的競爭對手，bSEc不可能花費10年時間就能趕上GcA或Nikon，孫健從開始接手，就有清醒的認識，錢不是萬能的！沒有193nm波長這道世界級的難題阻擋，bSEc再花10年時間，也趕不上GcA和Nikon!

如今EUVLLc聯盟同前世唯一不同的是，荷蘭刻機公司AmSL變了國刻機公司GcA。

前世，ASmL為了進EUVLLc聯盟，不得不答應國政府提出的苛刻條件，包括在國境建廠、建立研發中心，製造出來的EUV刻機中有55%的零件必須由企採購。

EUV刻機中至有一半技來自國高科技公司，這是ASmL永遠繞不過去的專利技。

90nm製程工藝的bSEc刻機不量產，bSEc不會申請浸沒式刻機技的公司發明專利。